振動拋光可去除樣品表面機械化制樣后殘留的細微變形層,消除樣品的表面應力,提高樣品表面光潔度。對于電子背散射衍射
(EBSD)分析、原子力顯微鏡(AFM)分析、電鏡(SEM)分析等,前序樣品制備非常有效。
同時,振動拋光因其優(yōu)異的機械-化學拋光效果,適合大部分材料的精拋和終拋,尤其適用于軟質和韌性材料,如純鈦及鈦合金、純鋁及鋁合金、純銅及銅合金、鎳基合金、高溫合金等。
二、技術參數:
1、型號:ZDP-300
2、機體形式:臺式
3、控制方式:觸摸屏控制
4、拋盤尺寸:305mm
5、拋光直徑:8-50mm(特殊尺寸可定制)
6、主機功率:1.5KW
7、頻率調節(jié):自動
8、電壓調節(jié):自動
9、電源 :220V
三、標準配置:
1、主機:一臺
2、精密拋光布:一塊(主機內)
3、樣塊輔具:一套
4、納米拋光液:一瓶
5、電源線:一條
6、備用保險管:一只(主機電源插口內)
7、技術文件:一份
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