分析設(shè)備介紹-電子掃描型顯微鏡放大倍數(shù):20~3000倍 EPMA電子探測(cè)X射線微量分析儀 用途: 可定性定量分析SEM圖像上的化學(xué)元素及指定元素的毛刺發(fā)生可能性。 (放大倍數(shù):40~3000倍) SEM(電子掃描型顯微鏡) 用途: 從剖面觀察角度來(lái)判斷焊料合金的焊接狀態(tài)(開裂、空洞、合金層), 焊料的表面觀察以及元件的剝離情況等。 (放大倍數(shù):20~3000倍)